Атомно-слоевое осаждение нитрида кремния (SiNx) с применением удаленного источника плазмы

Атомно-эмиссионный анализ пленки Si₃N_3.4 c содержанием O₂ (<3%) осажденной ALD методом.

Технологические особенности осаждения:

• Металлический прекурсор: 3DMAS;
• Неметаллический прекурсор: плазме N₂H₂;
• Испарение при 40^оС;
• Доза прекурсора контролируется быстродействующей системой подачи газов;
• Температура осаждения: 350°C;
• "Околостехиометрическая" структура;
• 0.35 A/цикл (при 350°C и дозе насыщения);
• Содержание примесей: О<3%;
• Коэффициент преломления: ~1.95.

Оборудование: FlexAl & OpAl

Зависимость толщины и показателя преломления от количества циклов.