Сканирующий электронный микроскоп Quattro

SEM Quattro является отличным решением для тех, кто исследует в работе образцы различной природы и происхождения и хочет свести к минимуму время на их подготовку. Quattro отличается универсальностью и дает возможность быстро получать изображения и анализировать даже непроводящие и/или гидратированные образцы.

Нанохарактеризация образцов:

• Металлы и сплавы, трещины, сварные швы, полированные профили, магнитные и сверхпроводящие материалы;
• Керамика, композиты, пластмассы;
• Пленочное покрытие;
• Геологические срезы, минералы;
• Мягкие материалы: полимеры, фармацевтические препараты, фильтры, гели, ткани, материалы растительного происхождения;
• Частицы, пористые материалы, волокна.

Характеризация in situ:

• Кристаллизация / фазовое преобразование;
• Окисление, катализ;
• Выращивание материалов;
• Гидратация/дегидратация/смачивание/угол соприкосновения анализа;
• Растяжение/сжатие (при нагреве и охлаждении).

В базовую комплектацию Quattro входит:

• Высокопроизводительный SEM с FEG колонной;
• Компьютер с 24″ LCD монитором (Windows 7);
• CCD камера;
• Мультифункциональный держатель на 18 (⌀12) слотов;
• Предметный столик 110 × 110 мм, моторизированный по 5 осям;
• Режим ESEM с вспомогательной газовой системой.

Детекторы:

• Детектор вторичных электронов Эверхарта-Торнли (SED) для топографического контраста материалов в режиме высокого вакуума;
• Large Field GSED (газовый детектор вторичных электронов для топографического контраста в режиме низкого вакуума;
• LVD детектор вторичных электронов для работы в режиме низкого вакуума.

Вакуумная система:

• Турбомолекулярный насос: 1 × 250 лит/с;
• Форвакуумный насос: 1 шт;
• Ионно-геттерный насос: 2 шт.

Программное обеспечение:

• xT SEM – простой и удобный пользовательский интерфейс;
• Smart ScanTM – функция интеллектуального сканирования;
• DCFI – интегрированная система компенсации дрейфа;
• Отображение результатов на экране монитора сразу с 4 детекторов (Single-frame or 4-view image display).

В зависимости от предполагаемой области применения, микроскоп может быть дополнительно оснащен:

• Оптической камерой Nav-Cam для удобной навигации по образцу;
• Уникальным выдвижным многосегментным детектором обратно-рассеянных электронов DBS;
• Устанавливаемым на линзу газовым аналитическим детектором обратнорассеянных электронов DBS-GAD для режимов низкого вакуума и ESEM;
• Уникальным выдвижным многосегментным детектором прошедших электронов STEM3+;
• Пельтье столиком WetSTEM™ интегрированным с STEM для изучения тонких и влажных образцов;
• Детектором катодолюминесценции RGB-CLD;
• Внутриколонным ICD детектором для использования режима замедления пучка;
• Специальными держателями образцов (возможен заказ держателей под нужды пользователя);
• Системой подачи газа для нанесения пленок/сварки GIS (углерод, платина, вольфрам);
• Наноманипуляторами и зондами;
• Криостоликом Пельтье от -20°C до +60°C;
• Функцией замедления пучка Beam deceleration в диапазоне от -4000В до +50В;
• Плазменной очисткой образца/камеры Plasma Cleaner;
• Модулем криоочистки образца CryoCleaner;
• Системой для быстрой загрузки Quick Loader;
• Различными анализаторами: EDS, EBSD, CL, WDS, Raman;
• Системой рисования электронным лучом Patterning;
• Амперметром для измерения тока на образце;
• Акустическим кожухом для вакуумной системы;
• Полностью безмасляного форвакуумного насоса;
• Дополнительным компьютером/монитором;
• Джойстиком;
• Ручной консолью управления;
• Системой навигации и ПО Correlative Navigation, MAPS Tilting and Stitching;
• ПО MAPS для автоматического получения массивных изображений и их обработки;
• ПО AutoScript4 для написания скриптов и автоматизации работы;
• TopoMaps для характеризации изображений и 3D реконструкции поверхности;
• ПО дополнительного анализа изображений и 3D реконструкций Avizo/Amira/PerGeos</strong;>
• ПО для удаленного доступа и диагностики системы;
• ПО для in situ экспериментов и контроля температурных столиков 1000°C — 1400°C, Пельтье столика -20°C — +60°C.

Камера для образцов:

• Размер камеры: 340 мм;
• Перемещение столика: 110*110 (x,y);
• Вращение: n*360°;
• Наклон: -15°/+90°;
• Максимальный размер образца: 122 мм ⌀;
• Порты: 12.

Рабочее ускоряющее напряжение 200В — 30кВ.

Разрешение:

• 0,8 нм на 30 кВ (STEM) — HiVac;
• 1 нм на 30 кВ (SE) — HiVac;
• 2,5 нм на 3 кВ (BSE) — HiVac;
• 3 нм на 1 кВ (SE) — HiVac;
• 1,3 нм на 30 кВ (SE) — LoVac;
• 2,5 нм на 30 кВ (BSE) — LoVac;
• 3 нм на 3 кВ (SE) — LoVac;
• 1,3 нм на 30 кВ (SE) — ESEM.

Уровень вакуума в камере:

• (высокий вакуум) < 6 × 10^-4 Па;
• (низкий вакуум) 10 — 200 Па;
• (ESEM) < 10 — 4000 Па.

• Quattro ESEM Datasheet;
• Quattro ESEM — RUS.